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透過鐳射直寫技術製造光子裝置▩╃↟:SEM如何作出貢獻

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詳細介紹▩╃↟:

光子裝置被廣泛應用於自然科學中·╃,用於製造·╃,操作和探測光╃↟·•◕。在未來·╃,製造先進的光子裝置將是一種挑戰·╃,並需要靈活性和可調諧性╃↟·•◕。因為它們需要先進的三維光刻技術·╃, 製造這些裝置並非易事╃↟·•◕。鐳射直寫技術(DLW)是一種有趣的方式·╃,它的目標是運用液態晶體光刻膠作為感光材料╃↟·•◕。

 

在這篇部落格中·╃, 我們將描述用於生產人造橡膠光學可調諧光子裝置的光刻膠是如何進行特殊設計和測試的·╃,以及如何用掃描電子顯微鏡(SEM)來幫助設計改進過程╃↟·•◕。

 

1▩╃↟: 鐳射直寫流程(DWL)▩╃↟: i) 光束聚焦·╃,ii) 鐳射書寫·╃,iii) 開發和iv) 完成結構 (A. Selimis et al, Microelectronic Engineering, 132 (2015), 83-89)╃↟·•◕。

 

2: 左邊的SEM顯微圖和線條放大的影象·╃,是透過不同的鐳射功率和書寫速度獲得的╃↟·•◕。

 

3: 使用不同的光功率和不同光刻膠(a – c)☁╃、 特定結構放大圖(d和e)的掃描電子顯微鏡的結構圖案·╃,並放大影象╃↟·•◕。標尺為10µm╃↟·•◕。

 

4:圓柱形結構的SEM影象·╃,用於研究光刻膠的光響應╃↟·•◕。標尺寸為 10µm╃↟·•◕。

傳真▩╃↟:

郵箱▩╃↟:info@phenom-china.com

地址▩╃↟:上海市閔行區虹橋鎮申濱路 88 號上海虹橋麗寶廣場 T5·╃,705 室

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